特許
J-GLOBAL ID：200903096840782371

ビニルエーテル基含有重合体の製造方法

発明者：
河本 惠司

河本 惠司 について

, 
沢田 英夫

沢田 英夫 について

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石戸谷 昌洋

石戸谷 昌洋 について


出願人/特許権者：
日本油脂株式会社

日本油脂株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-064746
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256426
出願日： 1993年03月01日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：
【要約】【構成】一般式【化1】(R1、R2、R3、m及びnは明細書に記載のとおりである)で表される数平均分子量500〜1000000のビニルエーテル基含有重合体を製造する際に、モノマーをラジカル重合開始剤及びラジカル連鎖移動剤の存在下に重合させる方法である。【効果】モノマーの仕込み濃度を高濃度に高めることができるとともに、短時間で収率よく、かつ容易に、しかも特殊な装置を使用せずに、効率よくビニルエーテル基含有重合体を製造することができる。
請求項（抜粋）：
一般式【化1】[式中のR1は水素原子又はメチル基、R2は炭素数1〜10のアルキレン基、mは1〜10000の整数、nは0又は1〜10000の整数、R3はCX2-CR4Y、【化2】又は【化3】で示される基、Xは水素原子又はハロゲン原子、Yはフェニル基、シアノ基、ハロゲン原子、CO2R5、OCOR6又はCON(R6)2、R4は水素原子、メチル基又はCH2CO2R6、R5は炭素数1〜10のアルキル基若しくはペルフルオロアルキル基、グリシジル基、炭素数3〜10のヒドロキシアルキル基、(CH2CH2O)P-H又は【化4】で示される基、pは0又は1〜5の整数、qは0、1又は2、R6は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基、R7、R8、R9及びR10はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、Zは酸素原子又はN-R11、R11は水素原子、フェニル基、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のシクロアルキル基である]で表される数平均分子量500〜1000000のビニルエーテル基含有重合体を製造するに当たり、ラジカル重合開始剤の存在下に、ラジカル連鎖移動剤を共存させることを特徴とするビニルエーテル基含有重合体の製造方法。
IPC (7件)：
C08F220/28 MML ,  C08F220/28 MMV ,  C08F212/08 MJU ,  C08F220/44 MMY ,  C08F222/06 MLU ,  C08F222/12 MLY ,  C08F222/40 MNE
引用特許：
審査官引用 (4件)
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