特許

J-GLOBAL ID：200903096842059308

高圧処理方法及び高圧処理装置

発明者： 坂下 由彦 ,  大柴 久典 ,  猿丸 正悟 ,  渡邉 克充 ,  村岡 祐介 ,  斉藤 公続 ,  溝端 一国雄 ,  北門 龍治
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所 ,  大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-133003
公開番号（公開出願番号）：特開2002-320929
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月05日
要約：

【要約】【課題】 薬液による処理と高圧流体による処理が可能な高圧処理方法および高圧処理装置を提供する。【解決手段】 内部に処理室2を有する圧力容器1と、前記処理室2にて被処理体4を収容する収容部材5と、前記処理室2に高圧流体を供給する手段と、を備え、腐食性流体を前記処理室2に供給および/または排出するための弁構造体6、7を圧力容器1内で処理室2に連通して備えている。

請求項（抜粋）：

圧力容器(1)の処理室(2)で被処理体(4)を腐食性流体で洗浄するとき大気圧にて洗浄するとともに、洗浄後に処理室(2)から腐食性流体を排出した後、当該処理室(2)に高圧流体を供給して前記被処理体(4)を乾燥処理することを特徴とする高圧処理方法。

IPC (6件)：

B08B 3/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

B08B 3/08 A ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 Z ,  H01L 21/30 570 ,  H01L 21/306 A

Fターム (11件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB95 ,  3B201CC12 ,  5F043BB27 ,  5F043CC14 ,  5F043DD10 ,  5F043EE08 ,  5F043EE32 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 超臨界乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-248672   出願人：日本電信電話株式会社
• 超臨界乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-151360   出願人：日立工機株式会社, 日本電信電話株式会社, 株式会社日立サイエンスシステムズ

審査官引用 (2件)

• 超臨界乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-248672   出願人：日本電信電話株式会社
• 超臨界乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-151360   出願人：日立工機株式会社, 日本電信電話株式会社, 株式会社日立サイエンスシステムズ