超臨界乾燥装置

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出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：高橋明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-151360
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340540
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】反応処理室への半導体基板の出し入れが容易に出来る超臨界乾燥装置を提供する。【解決手段】中空の反応処理室および反応処理室に通ずる出し入れ口を有する反応槽と、出し入れ口を開け閉めする蓋体を備え、反応処理室内で半導体基板の薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を含む各種処理を行なう超臨界乾燥装置にあって、半導体基板を保持し、かつ蓋体に支持される基板保持部材と、この基板保持部材が反応処理室に収まるように反応槽に蓋体を近接したり、反応室より基板保持部材を抜き出すように蓋体を反応槽から離したりする蓋体の接離移動動作が回転を伴なわずに直線的に行なわれるように案内する案内手段と、蓋体に接離移動動作を加える駆動手段とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

中空の反応処理室および反応処理室に通ずる出し入れ口を有する反応槽と、出し入れ口を開け閉めする蓋体を備え、反応処理室内で半導体基板の薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を含む各種処理を行なう超臨界乾燥装置において、半導体基板を保持し、かつ蓋体に支持される基板保持部材と、この基板保持部材が反応処理室に収まるように反応槽に蓋体を近接したり、反応室より基板保持部材を抜き出すように蓋体を反応槽から離したりする蓋体の接離移動動作が回転を伴なわずに直線的に行なわれるように案内する案内手段と、蓋体に接離移動動作を加える駆動手段とを有することを特徴とする超臨界乾燥装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 651 , B08B 3/02 , F26B 7/00 , F26B 3/04 , F26B 3/18

FI (5件)：

H01L 21/304 651 Z , B08B 3/02 A , F26B 7/00 , F26B 3/04 , F26B 3/18

Fターム (38件)：

3B201AA03 , 3B201AB42 , 3B201AB47 , 3B201BB02 , 3B201BB24 , 3B201BB32 , 3B201BB62 , 3B201BB90 , 3B201BB91 , 3B201BB92 , 3B201BB99 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CD22 , 3L113AA01 , 3L113AB02 , 3L113AB05 , 3L113AC01 , 3L113AC20 , 3L113AC45 , 3L113AC46 , 3L113AC48 , 3L113AC49 , 3L113AC54 , 3L113AC57 , 3L113AC63 , 3L113AC67 , 3L113AC75 , 3L113AC76 , 3L113AC77 , 3L113AC79 , 3L113AC90 , 3L113BA34 , 3L113DA02 , 3L113DA07 , 3L113DA18 , 3L113DA24 , 3L113DA30

引用特許：

審査官引用 (8件)

精密洗浄方法および精密洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-202001 出願人：日機装株式会社
耐圧容器
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-173331 出願人：シューズリフレッシャー開発協同組合, 土屋好文
基板から汚染物を取り除く方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-010641 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

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