特許
J-GLOBAL ID：200903096852584273
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-182445
公開番号（公開出願番号）：特開平10-026820
出願日： 1996年07月11日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：
【要約】【課題】従来のハーフトーン型位相シフトマスクの欠点を解消するために、半透明膜を単一金属化合物薄膜で形成することにより、位相シフトマスクとしての光学定数のほかに、露光光での反射率や検査波長での透過率を制御でき、且つ導電性を兼ね備えた半透明膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供することを目的とする。【解決手段】透光性基板1上に半透明膜2を設け、該半透明膜2をパターン化してなるハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記半透明膜2がジルコニウム化合物薄膜よりなり、該ジルコニウム化合物薄膜が酸化ジルコニウム膜、窒化ジルコニウム膜、酸化窒化ジルコニウム膜のうちいずれか一つよりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク(図1(a))及びハーフトーン型位相シフトマスク(図1(c))とするものである。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に半透明膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜がジルコニウム化合物薄膜よりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
