化学増幅型ポジ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-198978
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090883
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】高解像性及び高感度を有し、かつ引き置き経時安定性が優れ、基板依存性がなく、形状及び耐熱性が優れたレジストパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸解離性保護基で保護された水酸基をもち、かつ酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比3.5以下の樹脂成分に、(B)一般式【化1】(R1及びR2はピリジル基、ベンゾオキサゾリル基又はアミノ基若しくは低級ジアルキルアミノ基を有するアリール基、nは0又は1)で表わされるジスルホン化合物から成る酸発生剤を組み合わせて化学増幅型ポジ型レジスト組成物とする。

請求項（抜粋）：

(A)酸解離性保護基で保護された水酸基をもち、かつ酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比3.5以下の樹脂成分、及び(B)一般式【化1】(式中のR1及びR2は、それぞれピリジル基、ベンゾオキサゾリル基又は少なくとも1つのアミノ基若しくは低級ジアルキルアミノ基を有するアリール基であり、それらはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよく、nは0又は1である)で表わされるジスルホン化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 , C07C381/14 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A , C07C381/14 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-141606 出願人：日本ゼオン株式会社
ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-041718 出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-253523 出願人：富士写真フイルム株式会社

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