特許
J-GLOBAL ID:200903096875115017

積層セラミック電子部品および当該部品の製造の供せられるセラミックグリーンシートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (12件): 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  松井 孝夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-004229
公開番号(公開出願番号):特開2005-197585
出願日: 2004年01月09日
公開日(公表日): 2005年07月21日
要約:
【課題】 積層型電子部品の小型化、高性能化、高品質化に対応可能な電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】 電極形成領域をネガパターンとするマスクが付与された導電性基体を用いて電着法により第一の所定厚さの内部電極を形成し、更に内部電極層上面に第二の所定厚さの感光性絶縁体層を形成し、これを固化すると共にポスト電極用のパターン空間を形成し、このパターン空間に電着法によってポスト電極を形成し、当該内部電極、固化絶縁体層およびポスト電極を光透過性基体表面上に転写した後にこれら上面に感光性セラミックスラリーを塗布し、当該感光性セラミックスラリーを光透過性基体裏面より第一および第二の所定厚さを加えた厚さ露光することで、内部電極とセラミック部分との厚さがほぼ等しい内部電極包含型のセラミックグリーンシートを得る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
積層セラミック電子部品の製造に供せられるセラミックグリーンシートの製造方法であって、 内部電極形成領域をネガパターンとするマスクが形成された導電性を有する第一の基体を電極層形成用電着液に浸漬し、 前記第一の基体に対して電界を印加して前記ネガパターン上に前記マスクの厚さより薄い第一の所定厚さの内部電極を形成し、 前記内部電極表面に、所望の電気特性を有し、且つ前記内部電極表面上の所定部分を露出させたパターン部を有する絶縁体層を第二の所定厚さ形成し、 前記内部電極および絶縁体層が形成された前記第一の基体を前記電極層形成用電着液に浸漬すると共に電界を印加して前記パターン部に対して第二の所定厚さのポスト電極を形成し、 前記内部電極、絶縁体層およびポスト電極を光透過性の第二の基体上に転写し、 前記第二の基体および前記内部電極の表面上に前記第一および第二の所定の厚さを加えた厚さ以上の厚さとなるように感光性のセラミックスラリーを塗布し、 前記第二の基体の裏面側より前記感光性セラミックスラリーに対して光を照射して前記感光性セラミックスラリーに対して前記第一および第二の所定厚さを加えた厚さまで露光を施して前記感光性セラミックスラリーの所定部分を固化し、 現像処理により前記感光性セラミックスラリーの未露光部分を除去することを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。
IPC (1件):
H01F41/04
FI (1件):
H01F41/04 C
Fターム (1件):
5E062DD04
引用特許:
出願人引用 (4件)
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