液晶表示素子用偏光膜の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-228943
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153712
出願日： 1998年08月13日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】本発明は、色を表わす領域である可視光線領域をすべてカバーできる広い選択反射波長帯域(偏光領域)を有するだけでなく、光を透過する効率である偏光率に優れた液晶表示素子用偏光膜を製造する方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の液晶表示素子用偏光膜の製造方法は、基板上に感光性高分子素材である液晶配向物質を薄膜塗布し、ここに偏光された光を照射して光配向処理された配向膜を形成する工程と、少なくとも2種類の液晶単量体と、光重合開始剤とを混合して液晶混合物を調製する工程と、得られた配向膜の上に調製した液晶混合物を塗布し、液晶混合物中の液晶分子の光軸が膜面に垂直になるように配向させる工程及び光重合開始剤が添加された液晶混合物に光を照射して、光重合反応させる工程とからなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(1)基板上に感光性高分子素材である液晶配向物質を薄膜塗布し、偏光された光を照射して光配向処理された配向膜を形成する工程と、(2)少なくとも2種類の液晶単量体と、光重合開始剤とを混合して液晶混合物を調製する工程と、(3)(1)の工程で得られた配向膜の上に、(2)の工程で調製した液晶混合物を塗布し、液晶混合物中の液晶分子の光軸が膜面に垂直になるように配向させる工程及び、(4)光重合開始剤が添加された液晶混合物に光を照射して、光重合反応させる工程とからなることを特徴とする液晶表示素子用偏光膜の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/30 , C09D179/08 , G02F 1/1335 510 , G02F 1/1337 520

FI (4件)：

G02B 5/30 , C09D179/08 Z , G02F 1/1335 510 , G02F 1/1337 520

引用特許：

審査官引用 (4件)

光学異方性を有する基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-215874 出願人：大日本インキ化学工業株式会社
特開平1-133003
超広帯域偏光反射材料
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-517541 出願人：レヴェオ・インコーポレーテッド

全件表示

前のページに戻る