特許
J-GLOBAL ID：200903097022378812
光学異方性を有する基板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215874
公開番号（公開出願番号）：特開平8-075924
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【構成】 (1)第1の透明性基板及び第2の基板上に配向処理を施す第1工程、(2)前記2枚の基板を、配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第2工程、(3)光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第3工程、(4)一方の基板を剥離する第4工程、及び(5)第3の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第5工程を有することを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法。【効果】 この製造方法により、透明性基板に対する要求を緩和でき、製造コストの低減を図れる。また、液晶セルのガラス基板の上に直接光学異方体を簡便に転写することができるため、各種液晶ディスプレイの高性能化、軽量化、薄型化および低コスト化に極めて有用である。
請求項（抜粋）：
(1)第1の透明性基板及び第2の基板上に配向処理を施す第1工程、(2)前記2枚の基板を、配向処理を施した面を対向させて配置した後、これらの基板間に重合性液晶組成物を介在させる第2工程、(3)光を照射することによって前記重合性液晶組成物を重合させて光学異方体を形成する第3工程、(4)一方の基板を剥離する第4工程、及び(5)第3の透明性基板上に前記光学異方体を転写する第5工程を有することを特徴とする光学異方性を有する基板の製造方法。
IPC (5件)：
G02B 5/30
, C09K 19/38
, G02F 1/13 500
, G02F 1/1335 510
, G02F 1/137 500
