特許

J-GLOBAL ID：200903096958011345

マスクデータ作成方法

発明者： 三坂 章夫 ,  松岡 晃次 ,  笹子 勝
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-019555
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255642
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：

【要約】【課題】 設計データから所望の領域を選択してリソグラフィ工程で所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出しその箇所を修正する。【解決手段】 入力されたマスク設計データ601からゲート配線パタンと活性化領域とが重なり合う部分をゲート領域抽出部603でゲートパタンとして抽出する。ゲートエッジ抽出部604でゲートパタンからゲートエッジを抽出する。ゲートパタンのゲートエッジ近傍における光強度値を計算し、寸法シフト量計算部605で光強度値に基づいて近接効果によるゲート線幅の寸法シフト量を計算する。寸法シフト量が所定の値よりも大きいゲートパタンを抽出し、そのゲートパタンに対し寸法シフト量に基づいて平行補助パタン作成部607で平行な補助パタンを作成し、ゲート配線パタンのマスクデータ610を作成する。

請求項（抜粋）：

入力されたマスク設計データからゲート配線パタンと活性化領域とが重なり合う部分をゲートパタンとして抽出し、前記ゲートパタンからゲートエッジを抽出し、前記ゲートパタンの前記ゲートエッジ近傍における光強度値を計算し、前記光強度値に基づいて近接効果によるゲート線幅の寸法シフト量を計算し、前記寸法シフト量が所定の値よりも大きいゲートパタンを抽出し、前記寸法シフト量が所定の値よりも大きいゲートパタンに対して、そのゲートパタンに対し前記寸法シフト量に基づいて平行な補助パタンを作成して、ゲート配線パタンのマスクデータを作成するマスクデータ作成方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G06F 17/50 658 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/82

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G06F 17/50 658 M ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/82 T ,  H01L 21/82 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 図形演算処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-253636   出願人：三菱電機株式会社
• パターン形状の変形方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-213225   出願人：シャープ株式会社
• マスクパタンの設計方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-123331   出願人：日本電信電話株式会社