特許
J-GLOBAL ID:200903096979990882
書き込みユニットの調整方法及び調整装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西脇 民雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-176391
公開番号(公開出願番号):特開2000-009588
出願日: 1998年06月23日
公開日(公表日): 2000年01月14日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 書き込みユニットの深度方向の調整処理が容易な書き込みユニットの調整方法及び調整装置を提供する。【解決手段】 作像ユニット53の被走査面をリニアーに走査するのに用いられる光ビームのレーザー光源を、光ビームの進行方向各位置でエリア型固体撮像素子により取得された各ビーム画像に基づいて、光ビームの各位置でのビーム径を算出することにより深度方向に対するビーム径を求め、ビーム径と深度とにより深度に対するビーム径の関係を表す深度カーブを求め、深度カーブに基づきビームウエスト位置を特定して、ビームウエスト位置と基準位置との差からビームウエスト位置補正量を求める光ビーム特性評価方法により得られたビームウエスト位置補正量に基づいて、レーザー光源から書き込み対象面までの光路長を調整するために、作像ユニット53と書き込みユニット1との間隔が増減されるように両ユニットの少なくとも一方を移動させる。
請求項(抜粋):
作像ユニットの被走査面をリニアーに走査するのに用いられる光ビームのレーザー光源を、1ドットに相当する走査時間中点灯させると共に、前記被走査面を基準位置として前記光ビームを検出するエリア型固体撮像素子を前記光ビームの進行方向に沿って順次可動させることにより各位置におけるビーム画像を前記エリア型固体撮像素子により取得し、前記光ビームの進行方向各位置で前記エリア型固体撮像素子により取得された各ビーム画像に基づいて、前記光ビームの各位置でのビーム径を算出することにより深度方向に対するビーム径を求め、前記ビーム径と深度とにより深度に対するビーム径の関係を表す深度カーブを求め、該深度カーブに基づきビームウエスト位置を特定して、該ビームウエスト位置と前記基準位置との差からビームウエスト位置補正量を求める光ビーム特性評価方法により得られたビームウエスト位置補正量に基づいて、前記レーザー光源から前記書き込み対象面までの光路長を調整するために、前記作像ユニットと前記書き込みユニットとの間隔が増減されるように該両ユニットの少なくとも一方を移動させることを特徴とする書き込みユニットの調整方法。
IPC (5件):
G01M 11/00
, B41J 2/44
, G02B 26/10
, G03G 15/00 550
, G03G 15/04 114
FI (5件):
G01M 11/00 T
, G02B 26/10 D
, G03G 15/00 550
, G03G 15/04 114
, B41J 3/00 D
Fターム (22件):
2C362AA20
, 2C362AA26
, 2C362AA42
, 2C362AA45
, 2C362AA47
, 2C362DA03
, 2G086EE12
, 2H045AA01
, 2H045AA53
, 2H045BA12
, 2H045BA22
, 2H045CA61
, 2H045CB01
, 2H071AA27
, 2H071BA03
, 2H071BA16
, 2H071BA29
, 2H071DA02
, 2H076AB02
, 2H076AB09
, 2H076AB18
, 2H076EA24
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
レーザービーム測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-277102
出願人:キヤノン株式会社
-
特開平3-135738
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光ビーム形状の測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-107163
出願人:旭光学工業株式会社
-
レーザ書き込み装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-275918
出願人:株式会社リコー
-
特開平3-135738
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