特許
J-GLOBAL ID:200903097043095527
光学検査装置用の較正用標準試料およびその製造方法並びに光学検査装置における感度較正方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-055440
公開番号(公開出願番号):特開平10-325807
出願日: 1998年03月06日
公開日(公表日): 1998年12月08日
要約:
【要約】【課題】光学検査装置の較正において、適用可能な光学検査装置が限定されることなく高精度で長期間安定に絶対感度較正を行うことのできる較正用標準試料およびその製造方法を提供する。また感度較正の作業効率を向上するような光学検査装置およびそれにおける感度較正方法を提供する。【解決手段】ビーム加工等の加工によって、試料の表面の所定の位置に所定の個数で、高さおよび深さ方向を含む複数の寸法を規定して形成した、単独の構造体で欠陥を模擬する模擬欠陥を有し、その模擬欠陥の検出出力は実測あるいはシミュレーションによりあらかじめ保証されるように構成する。また感度較正の作業効率の向上が可能なように、光学検査装置は前記標準試料で初期状態の感度保証がされており、装置に感度較正の結果の記憶、表示、基準較正結果との比較、比較に基づく調整必要部分の判定が出来るように較正する。
請求項(抜粋):
被検査対象物に対して照明光を照射する照明光学系と、該被検査対象物から得られる光学像を検出する検出光学系と、該検出光学系で検出される光学像を受光して画像信号に変換する検出器と、該検出器で検出して変換された画像信号に基づいて前記被検査対象物に存在する欠陥を検査する欠陥検査手段とを備えた光学検査装置の較正に使用される較正用標準試料の製造方法において、標準粒子の粒子径に対応する模擬欠陥の立体形状設計データと実測される模擬欠陥の立体形状測定データとの関係がほぼ一致し、更に前記模擬欠陥の立体形状設計データに基づいてシュミレーションされた模擬欠陥についての感度の予測データと前記模擬欠陥の立体形状測定データに基づいてシュミレーションされた模擬欠陥についての感度の予測データとの関係がほぼ一致するように設定された加工パラメータにより3次元寸法を規定した立体形状の模擬欠陥を、所定の個数で、試料の表面に配設して形成する加工工程と、該加工工程で形成された模擬欠陥について標準の光学検査装置によって検査して模擬欠陥の感度を実測する感度データ実測工程と、該感度データ実測工程で実測された模擬欠陥の感度データと前記加工工程から得られる模擬欠陥の立体形状設計データまたは模擬欠陥の立体形状測定データとから、標準粒子の粒子径に対応する模擬欠陥の立体形状データに対する保証された感度データを取得する保証データ取得工程とを有することを特徴とする光学検査装置用の較正用標準試料の製造方法。
IPC (4件):
G01N 21/88
, G01N 1/00 102
, G01N 1/28
, H01L 21/66
FI (5件):
G01N 21/88 E
, G01N 1/00 102 B
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Y
, G01N 1/28 N
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-256340
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特開昭60-038827
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異物検出感度校正標準ウエハ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-266910
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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