特許

J-GLOBAL ID：200903097045502391

転写層にパターンを形成する方法

発明者： 川口 泰秀 ,  浅川 昭彦
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-234496
公開番号（公開出願番号）：特開2006-054300
出願日： 2004年08月11日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：

【課題】転写層にパターンを形成する方法、および該方法により所望のパターンが形成された転写層を提供する。【解決手段】含フッ素重合体のフッ素含有量が35質量%以上である含フッ素重合体を含有する熱可塑性樹脂からなる転写層と所望のパターンの反転パターンを有するモールドを圧着させて、該転写層の所望のパターンを形成する工程と、該モールドを該転写層から離脱させる工程とを具備する転写層にパターンを形成する方法、および該方法により所望のパターンが形成された転写層。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

含フッ素重合体のフッ素含有量が35質量%以上である含フッ素重合体を含有する熱可塑性樹脂からなる転写層と所望のパターンの反転パターンを有するモールドを圧着させて、該転写層の所望のパターンを形成する工程と、該モールドを該転写層から離脱させる工程とを具備することを特徴とする転写層にパターンを形成する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501

Fターム (2件)：

2H097AA20 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 流体圧力インプリント・リソグラフィ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-513006   出願人：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-385458   出願人：松下電器産業株式会社