特許
J-GLOBAL ID:200903097110814363

固体撮像装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松隈 秀盛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-291363
公開番号(公開出願番号):特開2000-299453
出願日: 1999年10月13日
公開日(公表日): 2000年10月24日
要約:
【要約】【課題】 MOS型、C-MOS型の固体撮像装置において、暗電流の低減、光電変換効率の向上を図る。【解決手段】 選択酸化による素子分離層34により画素分離されたpn接合型のセンサ部113を有し、第1導電型の第1の半導体ウエル領域32と素子分離層34との間に第1導電型の第2の半導体ウエル領域351が形成され、センサ部の電荷蓄積領域36と素子分離層34との間に第2の半導体ウエル領域351が延長して形成されて成る。
請求項(抜粋):
素子分離層により画素分離れたpn接合型のセンサ部を有し、第1導電型の第1の半導体ウエル領域と前記素子分離層との間に第1導電型の第2の半導体ウエル領域が形成され、動作時に前記センサ部の空乏層が該センサ部下の前記第1の半導体ウエル領域まで広がることを特徴とする固体撮像装置。
IPC (2件):
H01L 27/146 ,  H04N 5/335
FI (3件):
H01L 27/14 A ,  H04N 5/335 E ,  H04N 5/335 U
Fターム (16件):
4M118AA01 ,  4M118AA05 ,  4M118AB01 ,  4M118BA14 ,  4M118CA04 ,  4M118CA18 ,  4M118EA15 ,  4M118FA06 ,  4M118FA27 ,  4M118FA28 ,  5C024AA01 ,  5C024FA01 ,  5C024GA01 ,  5C024GA27 ,  5C024GA31 ,  5C024JA26
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
  • 固体撮像装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-248362   出願人:株式会社東芝
  • 固体撮像装置および固体撮像装置応用システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-203817   出願人:株式会社東芝
  • 特開平1-248658
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