特許

J-GLOBAL ID：200903097142631287

紫外線照射式水質浄化装置および水質浄化方法

発明者： 松本 正文 ,  佐藤 光洋 ,  阿部 一雄
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： 石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-023520
公開番号（公開出願番号）：特開2002-224668
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：

【要約】【課題】 気泡によって紫外線の光強度が減衰したり、透過範囲が狭められたりすることなく、十分な反応時間を確保して効率的に被分解物を分解できる紫外線照射式水質浄化装置を提供すること。【解決手段】 反応槽内の被処理液に紫外線を照射することにより、被処理液中の被分解物を分解して浄化する紫外線照射式水質浄化装置であって、前記反応槽は、被処理液中に導入された気体を気泡として上昇させるとともに、気体を被処理液中に溶解させる溶解部と、該溶解部と連通しつつ、紫外線照射により被分解物質の分解を行う紫外線照射部、とを有し、前記溶解部における前記気泡の上昇力を利用して、被処理液に前記溶解部と前記紫外線照射部とを循環する回流を形成可能にしたことを特徴とする、紫外線照射式水質浄化装置および水質浄化方法。

請求項（抜粋）：

反応槽内の被処理液に紫外線を照射することにより、被処理液中の被分解物を分解して浄化する紫外線照射式水質浄化装置であって、前記反応槽は、被処理液中に導入された気体を気泡として上昇させるとともに、気体を被処理液中に溶解させる溶解部と、該溶解部と連通しつつ、紫外線照射により被分解物質の分解を行う紫外線照射部、とを有し、前記溶解部における前記気泡の上昇力を利用して、被処理液に前記溶解部と前記紫外線照射部とを循環する回流を形成可能にしたことを特徴とする、紫外線照射式水質浄化装置。

IPC (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

FI (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

Fターム (9件)：

4D037AA11 ,  4D037BA18 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050BB02 ,  4D050BC04 ,  4D050BC09 ,  4D050CA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光反応液体処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-250947   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭52-036850
  
• オゾン/紫外線隔式循環装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-044471   出願人：日立プラント建設株式会社