特許

J-GLOBAL ID：200903097256545763

液処理装置

発明者： 竹熊 貴志
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188188
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074195
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】 ウエハなどの基板に対して液を吐出させて液処理を行うにあたり、マイクロバブルの発生を防止すると共に、ウエハに対する衝撃を緩和する。【解決手段】 回転するウエハに対して現像液を吐出させる現像液供給ノズル45の下面の吐出口61の真下に、衝突棒62を配置する。吐出口61から吐出された現像液は、衝突棒62に衝突した際に速度が減衰する。

請求項（抜粋）：

回転する基板に対して、ノズルの吐出口から処理液を吐出させて、当該基板に対して所定の処理を行う装置であって、前記ノズルの吐出口と基板表面との間に、吐出された処理液が衝突する衝突体を配置したことを特徴とする、液処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 現像装置とそれを用いた現像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-036794   出願人：富士通株式会社
• 処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-139364   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-125719   出願人：大日本スクリーン製造株式会社