特許
J-GLOBAL ID：200903097299684449
埋設界面の深さを測定する非破壊的方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001299
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260876
出願日： 1999年01月06日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 埋設界面の頂部が位置する深さを非破壊的に測定する。【解決手段】本発明はフーリエ変換赤外線測定を用いる。具体的には本発明の方法は埋設界面を内蔵する半導体基体を赤外線ビームに当て、返ってくる信号のスペクトルをフーリエ解析により検出し解析することを含む。フーリエ解析により解析されるスペクトルは校正用のスペクトルと比較されて埋設界面の頂部の深さを決定する。
請求項（抜粋）：
半導体基体の表面下に埋設された界面の頂部の深さを測定する非破壊的方法であって、測定されるべき前記埋設された界面を内蔵する半導体基体を赤外線で照射するステップと、前記半導体基体から戻ってくる信号を検出し、そのスペクトル内容をフーリエ解析により解析するステップと、前記戻ってきた信号のスペクトル内容を校正スペクトルと比較して前記埋設された界面の深さを決定するステップと、を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 P
, G01B 11/02 Z
