特許
J-GLOBAL ID:200903097303232833
液晶装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-044987
公開番号(公開出願番号):特開2000-241825
出願日: 1999年02月23日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 従来の液晶注入前の脱泡処理方法では、容器に貯留されている液晶の表面積が少ないため、液晶に含まれている気泡を充分に除去するには例えば10時間程度の長い時間真空中に放置する必要があったため、処理時間が長くなり、生産性が向上しないという課題があった。【解決手段】 第1の基板(11)または第2の基板(12)の周縁部に沿って塗布され一部に液晶注入口(切欠き)が形成されたシール材(20)により接合された上記第1の基板と第2の基板を減圧状態に置いて上記注入口に液晶を滴下した後、上記第1の基板と第2の基板を減圧下に数分間〜10分間放置してから大気中に開放もしくは基板の周囲圧力を増加させるようにした。
請求項(抜粋):
シール材により接合された一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、上記一対の基板を上記シール材で接合した後、真空もしくは減圧状態で液晶注入口に液晶を滴下し、適宜時間放置した後、基板周囲を大気圧に開放もしくは圧力を増加させて圧力差で上記基板間に液晶を浸入させるようにしたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
Fターム (9件):
2H089LA22
, 2H089NA25
, 2H089NA34
, 2H089NA53
, 2H089NA55
, 2H089NA60
, 2H089QA12
, 2H089RA05
, 2H089TA09
引用特許: