特許

J-GLOBAL ID：200903097384356051

塗布膜用乾燥炉

発明者： 中野 輝幸 ,  小澤 康博
出願人/特許権者： 株式会社石井表記
代理人 (6件)： 江原 省吾 ,  田中 秀佳 ,  白石 吉之 ,  城村 邦彦 ,  熊野 剛 ,  山根 広昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-243930
公開番号（公開出願番号）：特開2006-061755
出願日： 2004年08月24日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：

【課題】 塗布膜を塗布されたガラス基板の乾燥において、塗布膜の下面を長時間指示しているとその支持痕跡がのこりガラス基板としての品質に課題があった。【解決手段】 塗布膜が塗布されたガラス基板6の下面を常に移動する送り手段10,18で当接しながら加熱乾燥するので、ピン11,12,21の痕が発生し難いものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

上面に塗布膜が塗布された基板を加熱してこの塗布膜を乾燥させる塗布膜用乾燥炉であって、 側面に形成された基板の搬送口と、 前記基板の塗布膜を加熱乾燥させる加熱手段と、 前記塗布膜の加熱乾燥時に、基板の下面と当接し、基板との当接位置を移動させる送り手段とを備えたことを特徴とする塗布膜用乾燥炉。

IPC (5件)：

B05C 9/14 ,  F26B 3/28 ,  F26B 9/06 ,  F26B 23/04 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B05C9/14 ,  F26B3/28 ,  F26B9/06 A ,  F26B23/04 A ,  H01L21/30 567

Fターム (15件)：

3L113AA01 ,  3L113AA03 ,  3L113AB06 ,  3L113AC08 ,  3L113AC67 ,  3L113AC76 ,  3L113BA34 ,  3L113DA04 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA19 ,  4F042DB04 ,  4F042DB17 ,  5F046KA04 ,  5F046KA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 減圧乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-232828   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (4件)

• 塗膜乾燥方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-156155   出願人：株式会社東芝
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-182470   出願人：日立化成テクノプラント株式会社
• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-053824   出願人：光洋サーモシステム株式会社, 千住金属工業株式会社
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-241962   出願人：松下電器産業株式会社