特許
J-GLOBAL ID：200903097510209582

製膜装置

発明者：
宮澤 貴士

宮澤 貴士 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-189685
公開番号（公開出願番号）：特開2007-049128
出願日： 2006年07月10日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【課題】本発明は、従来プロセスを大幅に省略でき、微細な直描が可能な製膜装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、材料を貯留するための試料室と、前記材料又は前記材料を前駆体とする化学種を吐出する少なくとも1つのノズルと、前記化学種を発生させる化学種発生部と、を含む製膜装置を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
材料を貯留するための試料室と、 前記材料又は前記材料を前駆体とする化学種を吐出する少なくとも1つのノズルと、 前記化学種を発生させる化学種発生部と、を含む製膜装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/48
FI (2件)：
H01L21/205 ,  C23C16/48
Fターム (34件)：
4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA47 ,  4K030BB14 ,  4K030CA06 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030FA01 ,  4K030FA07 ,  4K030FA08 ,  4K030FA10 ,  4K030GA04 ,  4K030JA09 ,  4K030KA37 ,  4K030LA15 ,  5F045AA16 ,  5F045AB02 ,  5F045AB22 ,  5F045AC02 ,  5F045AC03 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045CA10 ,  5F045DP03 ,  5F045EE02 ,  5F045EE07 ,  5F045EE08 ,  5F045EF02 ,  5F045EF08 ,  5F045EK08 ,  5F045EK17 ,  5F045EK20
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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