特許
J-GLOBAL ID：200903097529332571

ヒドロゲル形成材料、ヒドロゲル組成物及び地盤強化方法

発明者：
樋口 隆行

樋口 隆行 について

, 
吉野 亮悦

吉野 亮悦 について


出願人/特許権者：
電気化学工業株式会社

電気化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-017568
公開番号（公開出願番号）：特開2008-184502
出願日： 2007年01月29日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：
【課題】水溶液の安定性が高いヒドロゲル形成材料を提供する。さらに、地盤強化が可能な弾力性、物理的強度、耐水性を有するヒドロゲル形成材料を用いたヒドロゲル組成物及びそれを使用した地盤強化方法を提供する。【解決手段】非アンモニウム型チタンペルオキソ化合物とポリビニルアルコールを含有する水溶液であるヒドロゲル形成材料である。前記非アンモニウム型チタンペルオキソ化合物がアルカリ金属塩であり、アルカリ金属濃度が0.1〜1.2質量%、ポリビニルアルコールの固形分濃度が4〜10質量%であり、チタン濃度が0.4〜1.0質量%であることが好ましい。前記ヒドロゲル形成材料にカルシウムアルミネート化合物を含有させたヒドロゲル組成物及びそれを使用した地盤強化方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
非アンモニウム型チタンペルオキソ化合物とポリビニルアルコールを含有する水溶液であることを特徴とするヒドロゲル形成材料。
IPC (7件)：
C08L 29/04 ,  C08K 3/22 ,  C09K 17/20 ,  C09K 17/08 ,  C09K 17/14 ,  C09K 3/00 ,  E02D 3/12
FI (8件)：
C08L29/04 A ,  C08K3/22 ,  C09K17/20 P ,  C09K17/08 P ,  C09K17/14 P ,  C09K3/00 103K ,  C09K3/00 103L ,  E02D3/12
Fターム (17件)：
2D040AA01 ,  2D040AB01 ,  2D040BB03 ,  2D040BD01 ,  2D040CA10 ,  2D040CB03 ,  4H026CA06 ,  4H026CB08 ,  4J002BE021 ,  4J002DE087 ,  4J002DE136 ,  4J002DE147 ,  4J002FD010 ,  4J002FD146 ,  4J002FD150 ,  4J002GL00 ,  4J002HA04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (10件)
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