特許
J-GLOBAL ID：200903097675713153

永久マスクレジスト、永久マスクレジストの製造法及び永久マスクレジスト積層基板

発明者：
吉田 哲也

吉田 哲也 について

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笹原 直樹

笹原 直樹 について

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土屋 勝則

土屋 勝則 について

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中野 昭夫

中野 昭夫 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-359530
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162739
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 永久マスクレジストとしての可とう性、はんだ耐熱性及び耐薬品性を低下させずに、高い耐湿絶縁性を示す永久マスクレジスト、永久マスクレジストの製造法並びに永久マスクレジスト積層基板を提供する。【解決手段】 基板上の下記一般式(I)で表される基を有する永久マスクレジスト、感光性樹脂組成物の層に、活性光線を照射し、その後、金属イオンを混合又は溶解させてなる水洗液や現像液で水洗現像することを特徴とする永久マスクレジストの製造法(式中、Xはn価の金属イオンを示し、nは金属イオンの価数である)
請求項（抜粋）：
一般式(I)【化1】(式中、Xはn価の金属イオンを示し、nは金属イオンの価数である)で表される基を有する永久マスクレジスト。
IPC (4件)：
G03F 7/033 ,  G03F 7/40 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/28
FI (4件)：
G03F 7/033 ,  G03F 7/40 ,  H05K 3/00 F ,  H05K 3/28 D
Fターム (25件)：
2H025AA06 ,  2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CB13 ,  2H025CB43 ,  2H025FA31 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA30 ,  5E314AA27 ,  5E314BB02 ,  5E314CC03 ,  5E314CC04 ,  5E314CC07 ,  5E314DD07 ,  5E314GG03 ,  5E314GG10 ,  5E314GG14
引用特許：
審査官引用 (3件)

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