精密研磨材

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-295051
公開番号（公開出願番号）：特開2005-059179
出願日： 2003年08月19日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】半導体ウエハーや、メモリーディスク、光化学部品レンズなどの精密研磨に用いられる研磨材で、ミクロポアが無く、長寿命で縁だれがおこりにくい精密研磨材を提供する。【解決手段】アニオン性ポリウレタンとウレタンプレポリマー末端イソシアネートブロック物とを含む水系の混合液を、不織布に含浸して乾燥した精密研磨用の研磨材であって、デュロメータ硬度がA80以上、フラジール型法での通気度が20cc/cm2/秒以上である【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アニオン性ポリウレタンとウレタンプレポリマー末端イソシアネートブロック物とを含む水系の混合液を、不織布に含浸して乾燥した精密研磨用の研磨材であって、デュロメータ硬度がA80以上、フラジール型法での通気度が20cc/cm2/秒以上であることを特徴とする精密研磨材。

IPC (2件)：

B24B37/00 , D06M15/564

FI (2件)：

B24B37/00 C , D06M15/564

Fターム (12件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058AC04 , 3C058CB01 , 3C058CB05 , 3C058DA17 , 4L033AA07 , 4L033AB07 , 4L033AC08 , 4L033AC15 , 4L033BA69 , 4L033CA50

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平2-218572号公報
特許2740143号公報
特開平2-218561号公報

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審査官引用 (13件)

特開平2-074675
特開平2-074675
特開平2-074675

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