特許
J-GLOBAL ID：200903097751849930
ナノ構造体、多孔質ナノ構造体および機能性ナノ構造体、並びにそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
飯田 敏三
, 佐々木 渉
, 宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-160022
公開番号（公開出願番号）：特開2006-334693
出願日： 2005年05月31日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】低コストで大面積の規則的なナノパターンを形成しうるナノ構造体、多孔質ナノ構造体および機能性ナノ構造体、並びにそれらの製造方法を提供する。【解決手段】ソフトリソグラフィ法を用いて基板(3)上に形成されたナノ構造体(1)であって、二種のポリマー成分からなり規則的な相分離構造を有するブロック共重合体から構成される少なくとも1つのサブ構造部(2)を含むナノ構造体(1)。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ソフトリソグラフィ法を用いて基板上に形成されたナノ構造体であって、二種のポリマー成分からなり規則的な相分離構造を有するブロック共重合体から構成される少なくとも1つのサブ構造部を有してなるナノ構造体。
IPC (3件)：
B82B 1/00
, B82B 3/00
, C08L 101/00
B82B1/00
, B82B3/00
, C08L101/00
