特許
J-GLOBAL ID：200903097770896699
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-341243
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173982
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：
【要約】【課題】 常に適正なプラズマ処理条件を保つことができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 放電電極4に高周波電圧を印加して真空チャンバ5内にプラズマを発生させ、放電電極4上の基板6のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、高周波電源部12とプラズマ放電を行う放電回路のインピーダンスを整合させるマッチング部11と放電電極4を接続する回路に挿入された抵抗10によって放電回路の電圧をモニタ制御部13により検出し、この検出結果に基づいて高周波電源部12を制御するようにした。またこの検出結果を真空チャンバ5内に堆積物のない初期状態に得られた基準値と比較し、真空チャンバ5内の経時変化を推定する。これにより、常に処理対象基板に応じた、また真空チャンバ5の経時変化に応じた適正な電源出力の設定を行うことができる。
請求項（抜粋）：
真空排気された真空チャンバ内にプラズマ発生用ガスを導入し、前記真空チャンバ内に配設された放電電極に高周波電圧を印加することにより真空チャンバ内にプラズマを発生させ、前記放電電極上に載置された処理対象物のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、前記放電電極に高周波電圧を印加する高周波電源部と、この高周波電源部とプラズマ放電を行う放電回路のインピーダンスを整合させるマッチング部と、このマッチング部と前記放電電極を接続する回路に挿入された抵抗によって放電回路の電圧およびまたは電流を検出する検出手段と、この検出手段の検出結果に基づいて前記高周波電源部を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065
, C23C 14/54
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23C 14/54 B
, H01L 21/205
, H05H 1/46 A
, H05H 1/46 R
4K029DC35
, 4K029EA09
, 5F004BA04
, 5F004BB11
, 5F004CA03
, 5F004CA08
, 5F004CB07
, 5F045AA08
, 5F045DP01
, 5F045EH13
, 5F045GB01
, 5F045GB04
, 5F045GB16
