気中粒子監視装置および真空処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西脇民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-334759
公開番号（公開出願番号）：特開2006-145347
出願日： 2004年11月18日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：

【課題】気中粒子監視装置において、検出される散乱光強度が、気流通過領域における粒子の通過位置に応じて変動するのを防止または低減して、粒子の大きさの検出精度を向上させる。【解決手段】レーザ光源10から、一次元状に配列された10本のレーザ光束L1,L2,...,L10を出射し、投射光学系20により、これら10本の光束L1,...,L10を全体として1本の帯状(帯の幅方向d)の光束L0とし、かつ、この光束L0の光強度が、半導体プロセス200の気流通過領域Rにおいて、その帯の幅方向dについて略均一分布となるように、レーザ光源10から出射された10本のレーザ光束L1,...,L10の一部同士を重ね合わせる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定強度の光を出射する光源と、該光源から出射した光を帯状の光束とし、所定の気流がこの帯状の光束を貫通するように、該帯状の光束を前記所定の気流の流路上に導光する投射光学系と、光の強度を検出する光検出手段と、前記気流中に含まれて前記光束を貫通した粒子による散乱光を、前記光検出手段に導く検出光学系と、前記光検出手段によって検出された前記散乱光の強度に基づいて、前記光束を貫通した粒子の大きさを求めるとともに、所定時間に前記光束を貫通した前記粒子の数を計数する粒子検出手段とを備えた気中粒子監視装置において、前記帯状の光束の光強度が、該帯の幅方向について略均一分布となるように設定されていることを特徴とする気中粒子監視装置。

IPC (1件)：

G01N 15/02

FI (1件)：

G01N15/02 A

引用特許：

出願人引用 (1件)

光学式ほこりセンサ光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-317443 出願人：三菱電機株式会社

審査官引用 (8件)

特開平2-022534
特開昭64-075943
粒径分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-344430 出願人：株式会社堀場製作所

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