特許
J-GLOBAL ID:200903097796246080

有機EL素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-295406
公開番号(公開出願番号):特開2001-118679
出願日: 1999年10月18日
公開日(公表日): 2001年04月27日
要約:
【要約】【課題】 有機EL膜や背面電極を所定のパターンで容易に形成することができる有機EL素子の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本有機EL素子の製造方法は、透明電極21が形成された透明基板1上に、所定のマスク形状を有するマスキングフィルム層4を形成した後、有機EL膜22及び背面電極23を順次形成する。このように製造することで、別途マスク板を要することがない。また、マスキングフィルム層4は粘着剤層44によって透明基板1上に固定されているため、パターン以外の部位に有機EL膜22及び背面電極23の蒸着膜が形成されることがなく、正確なパターンとすることができる。
請求項(抜粋):
透明基板上に、透明電極、有機EL膜及び背面電極が、この順に積層されてなる有機EL素子の製造方法において、上記透明電極が形成された上記透明基板上に、所定のマスク形状を有するマスキングフィルム層を形成した後、該マスキングフィルム層の上方から物理的蒸着法により上記有機EL膜及び上記背面電極を順次形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  H05B 33/14
FI (3件):
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  H05B 33/14 A
Fターム (16件):
3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  4K029AA09 ,  4K029BA45 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029HA03
引用特許:
審査官引用 (8件)
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