特許
J-GLOBAL ID：200903097888810748
フォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルとその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-121252
公開番号（公開出願番号）：特開2004-323704
出願日： 2003年04月25日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：
【課題】アルカリ現像の際に不溶物が生じないようなフォトレジスト用重合体を得ることのできる非酸脱離性のフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルを提供する。【解決手段】本発明のフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルは、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する酸脱離性基を有しないフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルであって、不純物としての該(メタ)アクリル酸エステルのオリゴマーの含有量が2000重量ppm以下であることを特徴とする。該(メタ)アクリル酸エステルには、ラクトン環含有基、又は極性基を有する脂環式炭化水素基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステルが含まれる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する酸脱離性基を有しないフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステルであって、不純物としての該(メタ)アクリル酸エステルのオリゴマーの含有量が2000重量ppm以下であることを特徴とするフォトレジスト用重合体合成用(メタ)アクリル酸エステル。
IPC (6件)：
C08F20/26
, C07C67/08
, C07C69/013
, C07C69/54
, C07D307/93
, G03F7/039
C08F20/26
, C07C67/08
, C07C69/013 C
, C07C69/54 B
, C07D307/93
, G03F7/039 601
2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025FA17
, 4C037UA04
, 4C037UA07
, 4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AA03
, 4H006AB78
, 4H006AC48
, 4H006AD41
, 4H006BA66
, 4H006BC10
, 4H006BJ30
, 4H006BN20
, 4H006KA06
, 4H006KA14
, 4H006KC20
, 4H039CA66
, 4H039CL25
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
