特許
J-GLOBAL ID：200903079999633928
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369225
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169292
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーのような200nm以下の波長の光源を用いたときに、優れた感度及び解像度を示し、かつ耐ドライエッチング性及び基板との密着性が良好な上に、ライン・スリミングの小さい微細なレジストパターンを与えうる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、樹脂成分(A)が(a1)アクリル酸又はメタクリル酸の2-アルキル-2-アダマンチルエステルから誘導された構成単位、(a2)酸解離性の2-オキソオキサペンチル基をもつアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導された構成単位、及び(a3)アクリル酸又はメタクリル酸の1-ヒドロキシアダマンチルエステルから誘導された構成単位からなる共重合体とする。
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、放射線照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤成分(C)とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、樹脂成分(A)が(a1)アクリル酸又はメタクリル酸の2-アルキル-2-アダマンチルエステルから誘導された構成単位、(a2)酸解離性の2-オキソオキサペンチル基をもつアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導された構成単位、及び(a3)アクリル酸又はメタクリル酸の1-ヒドロキシアダマンチルエステルから誘導された構成単位からなる共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601
, C08F220/26
, C08K 5/00
, C08L 33/14
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F220/26
, C08K 5/00
, C08L 33/14
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002EV246
, 4J002EV296
, 4J002EW046
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03R
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC53Q
, 4J100JA38
