文献

J-GLOBAL ID：200902126101545844   整理番号：00A0692987

193-nmレジスト用の先端材料

Advanced Materials for 193-nm Resists.

著者 (9件)： SHIDA N (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  USHIROGOUCHI T (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  ASAKAWA K (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  OKINO T (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  SAITO S (TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN) ,  TAKARAGI A (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN) ,  TSUTSUMI K (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN) ,  INOUE K (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN) ,  NAKANO T (Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13  号： 4  ページ： 601-606  発行年： 2000年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 脂環式環と極性成分のハイブリッド構造を有する単量体(アクリル...

シソーラス用語： *ポリアクリル酸エステル ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0692987&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (3件)： N-ヒドロキシフタルイミド ,  1-(アクリロイルオキシ)-3-カルボキシ-7-ヒドロキシビシクロ[3.3.1]ノナンラクトン ,  アクリル酸1-メチル-1-(1-アダマンチル)エチル

引用文献 (10件)：

• 1). K. Maeda et al., Proc. of SPIE, 2724, 377 (1996).
• 2). K. Nozaki, K. Watanabe, E. Yano, A. Kotachi, S. Takechi, and I. Hanyu, J. Photopolym. Sci. Technol. 9, 509 (1996).
• 3). K. Nakano, K. Maeda, S. Isawa, J. Yano, Y. Ogawa, and E. Hasegawa, Proc. of SPIE 2195 194 (1994).
• 4). J.-C. Jung et al., Proc. of SPIE, 3333, 11 (1998).
• 5). I.L. Rushkin et al., Proc. of SPIE, 36787, 44 (1999).

タイトルに関連する用語 (2件)： レジスト ,  先端材料