薄膜製造方法およびその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-350522
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201753
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】基板上に薄膜を堆積するために、基板以外の部分を加熱することなく、基板のみを加熱して薄膜の堆積を行う薄膜製造装置を提供すること。【構成】複数のエネルギー放射光源3および反射器16により一枚の基板7上に複数のスポット状のエネルギーを照射し、このスポット状のエネルギーを独立に制御しながら基板全体を加熱することを特徴とする薄膜製造方法およびその装置。

請求項（抜粋）：

反応チャンバー(1)内に基板(7)を載置し、輻射エネルギー放射光源(3)と前記輻射エネルギー放射光源(3)の輻射エネルギーを前記基板面でスポット状に集光されるように反射する反射器(16)とによって前記基板の一つに対して少なくとも二つ以上のスポット状に照射して、前記基板(7)を所定の温度に加熱せしめ、前記反応チャンバー(1)内に供給される反応ガス中の物質を基板上で反応させて薄膜を製造することを特徴とする薄膜製造方法。

IPC (7件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 , C23C 16/48 , C30B 25/10 , C30B 28/14 , C30B 29/06 504 , C30B 29/38

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭63-246829
特開昭58-158914
特開平4-297581

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