特許

J-GLOBAL ID：200903097900475933

超微粒子構造の作製方法

発明者： 小宮山 宏 ,  白川 宏昭 ,  大沢 利男
出願人/特許権者： 東京大学長
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-303944
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133794
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】 数nmスケ-ルの極微細な粒子から構成される超微粒子構造を作製する方法を提供する。【解決手段】 基板1上に、堆積させるべき物質と濡れ性の低い物質からなる薄膜2を形成する。次いで、この薄膜2に堆積させるべき物質と濡れ性の高い開口部3を形成した後、前記堆積させるべき物質にスパッタリングなどを施して基板1上に、堆積させるべき物質粒子4を堆積させる。すると、物質粒子4は薄膜2の表面2A上をマイグレートし、エネルギー的に安定な開口部3に落ち込んで集積し、衝突結合してなる極微細粒子5を形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に物質を堆積させて、前記基板上に極微細な粒子からなる超微粒子構造を作製する方法であって、前記基板の表面に堆積させるべき前記物質に対して濡れ性の低い部分と高い部分とを形成し、前記堆積させるべき物質を前記基板上に堆積させた後、前記濡れ性の高い部分に集積させて、前記極微細な粒子からなる超微粒子構造を作製することを特徴とする、超微粒子構造の作製方法。

IPC (4件)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/203 M ,  H01L 21/205

Fターム (28件)：

5F045AA19 ,  5F045AB02 ,  5F045AB10 ,  5F045AB12 ,  5F045AB14 ,  5F045AB22 ,  5F045AB32 ,  5F045AB40 ,  5F045AD09 ,  5F045AF04 ,  5F045AF07 ,  5F045AF09 ,  5F045AF10 ,  5F045BB09 ,  5F045DA56 ,  5F045HA12 ,  5F052KA05 ,  5F103AA08 ,  5F103DD03 ,  5F103DD11 ,  5F103DD16 ,  5F103DD27 ,  5F103DD28 ,  5F103DD30 ,  5F103HH03 ,  5F103HH04 ,  5F103HH07 ,  5F103LL17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 微粒子の規則的配列方法および光記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-084535   出願人：株式会社リコー
• 微小金属ドットの製造方法および微小金属ドット製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-018910   出願人：株式会社東芝
• レーヤードアルミニウム微粒子の生成法及びその応用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074604   出願人：工業技術院長