特許
J-GLOBAL ID：200903018338959291
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-051576
公開番号（公開出願番号）：特開2005-109426
出願日： 2004年02月26日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】 投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、所定パターンの像を液体1を介して基板Pに投影することによって基板を露光する。露光装置は、投影する投影光学系と、基板上の一部に液浸領域AR2を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構とを備える。液体供給機構は、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板P上に液体1の供給を同時に行う。露光装置は、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出等を防止して精度良く露光処理できる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と;
投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために、投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板上に液体の供給を同時に行う液体供給機構と;を備える露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 514E
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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