T字形状断面を有するホトレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-033159
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211868
出願日： 1996年01月29日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】基板上にホトレジスト層を設けた感光材料を用い、T字形状断面をもつレジストパターンを形成させる。【解決手段】基板上に設けたホトレジスト層を画像担持透明シートでマスクし、基板と接するホトレジスト層のボトム部分が実質的に不溶化するのに必要な露光量の15〜60%に相当する露光量で不完全画像形成露光したのち、露光したホトレジスト層の基板と接するボトム部分が完全に溶解脱離するのに要する現像時間の40〜85%に相当する現像時間で現像処理する。

請求項（抜粋）：

基板上に設けたホトレジスト層を画像担持透明シートでマスクし、基板と接するホトレジスト層のボトム部分が実質的に不溶化するのに必要な露光量の15〜60%に相当する露光量で不完全画像形成露光したのち、露光したホトレジスト層の基板と接するボトム部分が完全に溶解脱離するのに要する現像時間の40〜85%に相当する現像時間で現像処理することを特徴とするT字形状断面を有するホトレジストパターンの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 7/26 513 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/26 513 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平4-333224
ネガ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-353340 出願人：日本ゼオン株式会社
特開平4-333224

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