特許
J-GLOBAL ID:200903098004305545
イッテルビウムを含有するSiAlON及びその生成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-546475
公開番号(公開出願番号):特表2004-527434
出願日: 2001年11月13日
公開日(公表日): 2004年09月09日
要約:
α’SiAlON相及びβ’SiAlON相から成る二相複合体を含むSiAlON材料。α’SiAlON相は、イッテルビウムを含有する。α’SiAlON相は、二相複合体の約25重量%〜約85重量%の量で含まれる。このSiAlON材料は、粒間相をさらに含む。
請求項(抜粋):
窒化ケイ素粉末を含む出発粉末混合物から生成され、前記出発窒化ケイ素粉末がβ窒化ケイ素を約5重量%以下含有する、焼結セラミック体であって、
α’SiAlON相及びβ’SiAlON相から成る二相複合体を含み、前記α’SiAlON相がイッテルビウムを含有し、
前記α’SiAlON相が、前記二相複合体の約25重量%以上の量で含まれる、
前記焼結セラミック体。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (22件):
3C046FF33
, 3C046FF42
, 3C046FF47
, 4G001BA03
, 4G001BA08
, 4G001BA32
, 4G001BA36
, 4G001BB52
, 4G001BC12
, 4G001BC17
, 4G001BC24
, 4G001BC34
, 4G001BC49
, 4G001BC62
, 4G001BD12
, 4G001BD16
, 4G001BD18
, 4G001BD37
, 4G001BE01
, 4G001BE02
, 4G001BE03
, 4G001BE26
引用特許:
審査官引用 (17件)
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特開平4-026557
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高強度サイアロン基焼結体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-216587
出願人:宇部興産株式会社
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セラミックスローラ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-320292
出願人:日立金属株式会社
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窒化ケイ素質焼結体とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-084583
出願人:日本特殊陶業株式会社
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特開平4-270175
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特開平4-021570
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複合焼結体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-087994
出願人:株式会社豊田中央研究所
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セラミックおよびその連続焼結のためのプロセス
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-559063
出願人:ケンナメタルインコ-ポレイテツド
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特開平4-270175
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特開平4-026557
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特開平4-021570
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特開平4-270175
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特開平4-021570
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特開平4-021570
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特開平4-021570
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特開平4-026557
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特開平4-026557
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引用文献:
審査官引用 (3件)
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マテリアル・データベース, 19890125, 初版1刷, 第128頁
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マテリアル・データベース, 19890125, 初版1刷, 第128頁
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マテリアル・データベース, 19890125, 初版1刷, 第128頁
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