感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-195846
公開番号（公開出願番号）：特開2007-017481
出願日： 2005年07月05日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：

【課題】高い透過率、耐熱性、絶縁性の特性を有する薄膜トランジスタ(TFT)基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材などの形成に用いられる、高感度で現像時間を短縮でき、パターン膜がアルカリ水溶液に容易に溶解する感光性シロキサン組成物を提供する。【解決手段】(a)シロキサンポリマー、(b)キノンジアジド化合物、(c)特定の構造を有するフルオレン化合物および/または特定の構造を有するヒドロキシイミド化合物を含有することを特徴とする感光性シロキサン組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)シロキサンポリマー、(b)キノンジアジド化合物、(c)一般式(1)で表されるフルオレン化合物および/または一般式(2)で表されるヒドロキシイミド化合物を含有することを特徴とする感光性シロキサン組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/075 , G03F 7/023 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , G02B 6/12 , G02F 1/136

FI (6件)：

G03F7/075 521 , G03F7/023 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , G02B6/12 N , G02F1/1368

Fターム (26件)：

2H025AA01 , 2H025AA04 , 2H025AA10 , 2H025AA20 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB33 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H092JA24 , 2H092KB22 , 2H092KB25 , 2H092MA10 , 2H092NA11 , 2H092NA25 , 2H147EA18A , 2H147EA18B , 2H147FA17 , 2H147FA25 , 2H147FD19 , 2H147FE02 , 2H147FF05 , 2H147FF06

引用特許：

出願人引用 (8件)

特許第2933879号明細書(請求項1)
ポジ型熱硬化感光材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-242827 出願人：東ソー株式会社
感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-327699 出願人：東京応化工業株式会社

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