特許
J-GLOBAL ID：200903098032774178

液浸露光装置

発明者：
米山 義邦

米山 義邦 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 丹羽 宏之 ,  野口 忠夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-353773
公開番号（公開出願番号）：特開2005-123258
出願日： 2003年10月14日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】 レチクル上に描画されたパターンをウエハに焼付転写する投影光学系を有し、前記投影光学系の前記ウエハに最も近接した光学素子の下面と前記ウエハ及び前記ウエハを保持するウエハステージ、又は前記ウエハ表面のみを水又は有機溶媒等の液体で満たす液浸型露光装置において、前記光学素子に余分な応力をかけず、且つ前記投影光学系内部への前記液体の流入を防ぎ、像性能の劣化を防ぐことを目的とする。【解決手段】 接着によって保持固定された前記光学素子の保持位置及び前記液体の位置、前記光学素子の下面の位置の関係付けを行い、液体の流入を防ぐ。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクル上に描画されたパターンをウエハに焼付転写する投影光学系を有し、前記投影光学系の前記ウエハに最も近接した光学素子の下面と前記ウエハ及び前記ウエハを保持するウエハステージを水又は有機溶媒等の液体で満たしたMoving Pool方式の液浸型露光装置において、前記ウエハ表面から前記光学素子の露光光の有効光束が透過する下面の高さをHLG、前記液体の水平面の高さをHLQ1、前記光学素子の保持、固定する光学素子保持部材の保持部の高さをHSとしたとき、 HLG≦HLQ1<HS の関係を有することを特徴とする液浸型露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516F ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D
Fターム (4件)：
5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046DA12 ,  5F046DB03
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
  • 液浸型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン

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