パターン形成状態検出装置及びそれを用いた投影露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-139610
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036037
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】露光量とフォーカス位置を適切に設定し、高集積度のデバイスが得られるパターン形成状態検出装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】露光光で照明した第1物体面上の周期的なパターンを投影光学系により感光体を塗布した第2物体面上に投影露光する投影露光装置において、該感光体に形成される感光パターンの形成状態を入射光束の変化を利用して求め、これより該第2物体の露光条件を制御していること。

請求項（抜粋）：

周期的パターンから露光光で感光体を塗布した物体上に形成した感光パターン、該感光パターンに入射光束を照射する光束入射手段、該感光パターンからの信号光束を受光する受光手段、該受光手段からの信号を用いて該入射光束の変化を検出し、該感光パターンの形成状態を求める処理手段とを有していることを特徴とするパターン形成状態検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/66

FI (7件)：

H01L 21/30 526 B , G03F 7/20 521 , H01L 21/66 J , H01L 21/66 Y , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 502 V , H01L 21/30 516 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-312947
特開平2-030112
露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-178046 出願人：松下電子工業株式会社

全件表示

前のページに戻る