特許
J-GLOBAL ID：200903098045315873
環境調整方法及び環境調整装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
佐野 静夫
, 山田 茂樹
, 小寺 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-195223
公開番号（公開出願番号）：特開2004-033498
出願日： 2002年07月03日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】医薬品などの製造施設の部屋において、製造ラインの稼動開始から部屋の消毒までのサイクルが比較的短いので、消毒のたびに生産性が落ち、生産コストも高かった。【解決手段】製造ライン30の稼動中、イオン発生装置10を駆動して製造施設の部屋20に正イオンと負イオンを供給し、製造施設の部屋20の雰囲気中のカビや菌を不活化し、浮遊菌数を一定の水準以下に抑えておくことで、製造設備の部屋20の壁や製造ラインに配置される製造装置31,32へのカビや菌の付着を抑えることができる。これにより、ホルマリンによる部屋20全体の薫蒸消毒が必要となる時期を従来よりも延ばすことができる。したがって、製造ラインのトータルの稼動休止時間を短くできるので、生産性を向上させることができ、生産コストも抑えることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
外部と隔離された環境内に正負イオンを放出して前記環境内の微生物を不活化及び/若しくは有害物質を分解及び/若しくは除去することを特徴とする環境調整方法。
IPC (4件)：
A61L9/22
, A61L9/00
, B03C3/02
, B03C3/40
A61L9/22
, A61L9/00 C
, B03C3/02 A
, B03C3/40 C
4C080AA09
, 4C080BB02
, 4C080BB05
, 4C080QQ11
, 4D054AA13
, 4D054AA14
, 4D054AA20
, 4D054EA01
