特許
J-GLOBAL ID：200903098053443996
長尺成膜基体の静電気除去方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-169113
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351795
出願日： 2000年06月06日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】長尺基体に形成される膜の種類にかかわらず静電気を除去できる方法を提供すること及びその方法の実施に適した装置を提供すること。【解決手段】蒸着その他により成膜が施された長尺成膜基体5に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去する方法に於いて、極性が異なる1対のDCマグネトロン放電電極7、8間に該長尺成膜基体を通過させてその表裏両面の電位をゼロを含む同種の電位にする。該1対のDCマグネトロン放電電極の複数組を設け、長尺成膜基体を各DCマグネトロン放電電極間に順次に通過させる。導電体を成膜した場合には長尺成膜基体の片面に同極のDCマグネトロン放電電極を対向させ、誘電体を成膜した場合には該片面に交互に極性の異なるDCマグネトロン放電電極を対向させる。
請求項（抜粋）：
蒸着その他により成膜が施された長尺成膜基体に、プラズマを浴びせて該基体の静電気を除去する方法に於いて、極性が異なる1対のDCマグネトロン放電電極間に該長尺成膜基体を通過させてその表裏両面の電位をゼロを含む同種の電位にすることを特徴とする長尺成膜基体の静電気除去方法。
Fターム (4件)：
5G067AA23
, 5G067DA01
, 5G067DA18
, 5G067DA40
