感光剤製造装置の洗浄液及びそれを用いた洗浄方法、並びに、レジスト液調製装置の洗浄液及びそれを用いた洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂上好博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-202547
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118693
出願日： 1994年08月26日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】キノンジアジド系感光剤の製造装置やポジ型レジスト液の調製装置の洗浄効率に優れた洗浄液及び洗浄方法を提供すること。【構成】洗浄液を『N-メチルピロリドンを含む洗浄液』としたことであり、請求項2の発明は、前記発明に於いて『ジクロロメタン、シクロペンタノン及びアセトンからなる群から選択される少なくとも1種の有機溶剤を含有するようにした』ことである。そして、請求項3の発明の方法は、『N-メチルピロリドンを含む洗浄液、又は、これにジクロロメタン、シクロペンタノン、乳酸エチル、2-ヘプタノン、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチルセロソルブアセテート及びアセトンからなる群から選択される少なくとも1種の有機溶剤を含有させた洗浄液を用いて感光剤製造装置を洗浄すること』である。

請求項（抜粋）：

N-メチルピロリドンを含むことを特徴とするキノンジアド系感光剤製造装置の洗浄液。

IPC (5件)：

C11D 7/32 , C11D 7/26 , C11D 7/30 , C11D 7/50 , H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-020868
特開平2-063052
感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-253012 出願人：三菱化成株式会社

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