特許
J-GLOBAL ID：200903098082896975
真空蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-030829
公開番号（公開出願番号）：特開2000-234170
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】 走行中のフィルム表面に異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する混合膜を、連続的、且つ均一に形成できるようにする。【解決手段】 蒸着材料16を加熱する電子銃4と、走行中のフィルムにX線を照射してフィルムに含まれる特定元素の厚み当量を測定するフィルム厚み測定手段と、シャッター8を開閉してフィルムヘの薄膜形成と非形成を制御する開閉制御手段と、混合膜形成後の蒸着フィルムにX線を照射して特定元素の厚みを計測する蒸着フィルム厚み測定手段と、フィルム厚み測定手段と蒸着フィルム厚み測定手段で得られたデータを基に混合膜層の特定元素厚みに換算して出力する厚み補正手段と、この厚み補正手段で得られた厚みデータを基に材料の蒸発量を制御可能な厚み制御手段14,15とを備える。
請求項（抜粋）：
真空槽内を走行するフィルムに異なる元素からなる混合膜を形成する蒸着装置において、蒸着材料を加熱する加熱手段と、走行中のフィルムにX線を照射してフィルムに含まれる特定元素の厚み当量を測定するフィルム厚み測定手段と、開閉装置を開閉してフィルムヘの薄膜形成と非形成を制御する開閉制御手段と、混合膜形成後の蒸着フィルムにX線を照射して特定元素の厚みを計測する蒸着フィルム厚み測定手段と、前記フィルム厚み測定手段と前記蒸着フィルム厚み測定手段で得られたデータを基に混合膜層の特定元素厚みに換算して出力する厚み補正手段と、この厚み補正手段で得られた厚みデータを基に材料の蒸発量を制御可能な厚み制御手段と、を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (3件)：
C23C 14/54
, C08J 7/00
, C23C 14/24
C23C 14/54 C
, C08J 7/00 Z
, C23C 14/24 U
4F073AA28
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BA13
, 4F073BA14
, 4F073BA24
, 4F073BA29
, 4F073BB01
, 4F073GA09
, 4F073HA15
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029CA01
, 4K029DA13
, 4K029DB21
, 4K029EA00
, 4K029EA01
, 4K029EA02
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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