特許
J-GLOBAL ID：200903098097568893

離型膜形成方法

発明者：
佐藤 保彦

佐藤 保彦 について

, 
藤田 浩明

藤田 浩明 について


出願人/特許権者：
富士写真光機株式会社

富士写真光機株式会社 について


代理人 (1件)： 川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-127945
公開番号（公開出願番号）：特開平9-286625
出願日： 1996年04月23日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：
【要約】【目的】 プレス成形により光学素子が成形されるガラスブランクの表面に離型膜を形成する方法において、ガラスブランクの表面に50オングストローム未満、好ましくは10オングストローム未満の厚さの炭素膜を形成することにより、金型と成形品との離型性を向上する。【構成】 ガラスブランク1に対して酸素プラズマによるアッシングを施して、ガラスブランク1に付着した有機物の汚れを除去する。次いで、アルゴンプラズマによるプラズマクリーニングを施して、ガラスブランク1に付着した無機物の汚れを除去する。その後、メタンプラズマ処理を施して、汚れが除去されたガラスブランク1の表面に50オングストローム未満の炭素膜2を形成する。
請求項（抜粋）：
プレス成形により光学素子を製造する際に、成形用材料として用いられるガラスブランクの表面に離型膜を形成する方法において、前記ガラスブランクの表面に50オングストローム未満の厚さの炭素膜を形成することを特徴とする離型膜形成方法。
IPC (2件)：
C03B 11/00 ,  C03B 40/02
FI (2件)：
C03B 11/00 N ,  C03B 40/02
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (18件)
  • 特開昭63-222023
  • 特開昭63-222023
  • 特開昭63-222023
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