光学検査方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-528860
公開番号（公開出願番号）：特表2002-501194
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：

【要約】対象物上に存在する欠陥を検出するように、上面(12A)及び下面(12B)を有する対象物を光学的に検査するための方法及び装置。入射光の第一及び第二のビーム(118A、130A)を生成して、対象物に向ける。対象物の一面から反射した第一の入射ビームの光の構成要素(140)と、対象物の上面及び下面を透過した第二の入射ビームの光の構成要素(142)とを同時に検知する。欠陥を表示するデータを提供するように、反射した光の構成要素及び透過した光の構成要素により各々形成された第一及び第二の画像を得て、分析する。

請求項（抜粋）：

対象物上に存在する欠陥を検出するために上面と下面とを有する対象物を光学的に検査するための方法であって、 a)第一及び第二の入射光ビームを設けるステップと、 b)第一の入射光ビームを対象物に向けて、対象物の一面から反射した光の構成要素を検知するステップと、 c)第二の入射光ビームを対象物に向けて、対象物の上面及び下面を透過した光の構成要素を検知するステップと、 d)反射した光の構成要素により第一の画像が形成され、且つ、透過した光の構成要素により第二の画像が形成される、対象物の第一及び第二の画像を同時に得るステップと、 e)前記欠陥を表示するデータを提供するように、前記第一及び第二の画像を分析するステップとを含む方法。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , G01N 21/956

FI (3件)：

G01N 21/88 Z , G01N 21/956 A , G01N 21/956 B

Fターム (9件)：

2G051AA56 , 2G051AA65 , 2G051AB01 , 2G051AB07 , 2G051BA08 , 2G051CA04 , 2G051CB03 , 2G051CC12 , 2G051EB01

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭61-122648
特開昭61-122648
特開昭62-103548

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