特許
J-GLOBAL ID:200903098112424097

二次元位相素子及びその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 日比谷 征彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-250853
公開番号(公開出願番号):特開2001-074921
出願日: 1999年09月03日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】 アライメントエラーによる無効となる領域を小さくする。【解決手段】 アライメントエラーにより、一辺がaのレジストパターン23がx方向に長さdだけずれた場合のセグメントの平面図を示しており、レジストパターン23は一辺の長さが21/2aの正方形であり、クロム膜パターン21aの格子に対しては45 ゚傾いている。従って、ハッチングで示した領域61が無効な領域となり、局所的部分に限定され、その面積S3はS3=2d2で示すことができ、アライメントエラーによる無効となる領域を小さくすることができる。
請求項(抜粋):
セグメント間のアライメントエラーを局所的部分に限定したことを特徴とする二次元位相型素子。
IPC (3件):
G02B 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065
FI (3件):
G02B 5/02 D ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/302 J
Fターム (12件):
2H042BA10 ,  2H042BA15 ,  2H042BA16 ,  5F004EA33 ,  5F004EB07 ,  5F046CA02 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB23
引用特許:
審査官引用 (4件)
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