特許
J-GLOBAL ID：200903042476814286

光学素子の製作方法及び該光学素子を用いた照明装置

発明者：
吽野 靖行

吽野 靖行 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-281830
公開番号（公開出願番号）：特開平10-111407
出願日： 1996年10月03日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：
【要約】【課題】 エッチング量を適切に設定してマスクのアライメント誤差の影響を抑制して高性能なバイナリ型回折光学素子を製作することができる光学素子の製作方法及び該光学素子を用いた照明装置を得ること。【解決手段】 基板に対して順に、レジスト塗布,マスク上のパターンの露光転写,現像処理,エッチング,そしてレジスト除去という一連のプロセスをN回繰り返して光学素子を製作する光学素子の製作方法において、第k回目(2≦k≦N)のエッチング処理に入る前に該第k回目の露光転写で用いたマスクと第k-1回目の露光転写で用いたマスクとの相対的な位置合わせ誤差量を求め、該位置合わせ誤差量に応じて第k回目のエッチング量を決定していること。
請求項（抜粋）：
基板に対して順に、レジスト塗布,マスク上のパターンの露光転写,現像処理,エッチング,そしてレジスト除去という一連のプロセスをN回繰り返して光学素子を製作する光学素子の製作方法において、第k回目(2≦k≦N)のエッチング処理に入る前に該第k回目の露光転写で用いたマスクと第k-1回目の露光転写で用いたマスクとの相対的な位置合わせ誤差量を求め、該位置合わせ誤差量に応じて第k回目のエッチング量を決定していることを特徴とする光学素子の製作方法。
IPC (2件)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/30 515 D
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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