特許
J-GLOBAL ID：200903098210378788
マイクロ波プラズマ処理装置及びその実施に使用する対向電極
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-302261
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145116
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 対向電極がプラズマにより加熱されても、熱膨張により対向電極が変形することが防止され、プラズマの均一性の向上、エッチング特性の向上、及び安定したプラズマの発生を可能とするマイクロ波プラズマ処理装置及びその実施に使用する対向電極を提供する。【解決手段】 マイクロ波プラズマ処理装置は、マイクロ波発信器と、試料保持部と、この試料保持部上の試料に高周波電界又は直流電界を印加する手段と、前記試料保持部に対向配置されマイクロ波を通過する複数のマイクロ波導入窓が設けられて対向電極とを有する。そして、この対向電極15のマイクロ波導入窓14は相互にスリット16により連結されている。スリット16は対向電極15の表面に垂直の側壁又は傾斜した側壁を有する。また、スリット16の幅は1.5乃至2.0mmである。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発信器と、試料保持部と、この試料保持部上の試料に高周波電界又は直流電界を印加する手段と、前記試料保持部に対向配置されマイクロ波を通過する複数のマイクロ波導入窓が設けられて対向電極とを有し、前記対向電極のマイクロ波導入窓は相互にスリットで連結されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H05H 1/46 B
