特許

J-GLOBAL ID：200903098389375670

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 川上 晃也 ,  内海 義之 ,  羽田 英夫
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-122530
公開番号（公開出願番号）：特開2008-273912
出願日： 2007年05月07日
公開日（公表日）： 2008年11月13日
要約：

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】レジスト組成物用酸発生剤として、下式の化合物(式中、R40はハロゲン原子、特にフッ素原子;R41〜R43はアルキル基等;n0は1〜5;n1〜n3は0等;X-は1価の有機アニオン)。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(b1-10)で表される化合物。

IPC (4件)：

C07D 333/76 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C07D333/76 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (13件)：

2H025AA00 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-201310   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-100203   出願人：東京応化工業株式会社