特許
J-GLOBAL ID:200903098448942924

縮小オブジェクティブ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-150260
公開番号(公開出願番号):特開2000-031041
出願日: 1999年05月28日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】 短波長≦193nm、有利には短波長<100nmによるリソグラフィに適当な投影オブジェクティブ装置を提供することであり、この投影オブジェクティブ装置は前述の従来技術の欠点を有さず、できるだけ少ない光学素子で間に合い、他方で十分に大きなアパーチャを有し、テレセントリ要求ならびに波長≦193nmのための投影システムへの他の全ての要求を満たす。【解決手段】 上記課題は、4つのミラーを有し、凸面1次ミラーと2次ミラーの正の主ビーム角倍率とを特徴とする投影オブジェクティブによって解決される。
請求項(抜粋):
とりわけEUVマイクロリソグラフィの縮小オブジェクティブ(対物レンズ乃至は対物ミラー)であって、光学軸を基準にしてセンタリングされて配置される4つのマルチレイヤミラー(M1,M2,M3,M4)、すなわち1次ミラー、2次ミラー、3次ミラー、4次ミラーをこの順番にビーム路に有し、スキャニング動作に適したリング状フィールドを有し、オブスキュレーションのない光制御を有する、とりわけEUVマイクロリソグラフィの縮小オブジェクティブにおいて、凸面1次ミラー(M1)と、前記2次ミラー(M2)の正の主ビーム角倍率とを特徴とする、とりわけEUVマイクロリソグラフィの縮小オブジェクティブ。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G02B 17/06 ,  G03F 7/20 503
FI (3件):
H01L 21/30 531 A ,  G02B 17/06 ,  G03F 7/20 503
引用特許:
審査官引用 (6件)
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