マイクロ波プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-253807
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124899
出願日： 1994年10月19日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】被処理体へのダメージを発生することなく、前記被処理体表面のレジストパターンのような有機化合物膜を高速でアッシング除去することが可能なマイクロ波プラズマ処理装置を提供しようとするものである。【構成】上部にマイクロ波透過窓を有するプラズマ処理容器と、前記容器内に配置され、表面に有機化合物が形成された被処理体が載置される上下可変型のステージと、前記透過窓と前記ステージの間に配設された金属メッシュからなる遮蔽板と、前記処理容器に設けられた反応ガス導入口と、前記処理容器の上部にマイクロ波方向が前記透過窓と平行になるように連結されたマイクロ波導波管と、前記導波管に形成された導波管開口部とを具備したマイクロ波プラズマ処理装置において、前記ステージと前記遮蔽板の間隔は、20〜50mmであることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

上部にマイクロ波透過窓を有するプラズマ処理容器と、前記容器内に配置され、表面に有機化合物が形成された被処理体が載置される上下可変型のステージと、前記透過窓と前記ステージの間に配設され、前記処理容器内のプラズマ発生領域を前記透過窓側に規定する金属メッシュからなる遮蔽板と、前記プラズマ発生領域が位置する前記処理容器に設けられた反応ガス導入口と、前記処理容器の上部に進行するマイクロ波の方向が前記透過窓と平行になるように連結されたマイクロ波導波管と、前記透過窓に対向する前記導波管に形成され、進行する前記マイクロ波を前記処理容器内に導くための導波管開口部とを具備したマイクロ波プラズマ処理装置において、前記ステージと前記遮蔽板の間隔は、20〜50mmであることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマプロセス装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-102184 出願人：住友金属工業株式会社
特開平2-090521
特開平1-169929

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