特許
J-GLOBAL ID:200903098512981319

高精度リソグラフィ用グラフィックス・エンジン

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  林 鉐三 ,  祖父江 栄一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-527490
公開番号(公開出願番号):特表2005-502909
出願日: 2002年09月09日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
本発明は、サブ・ピクセル解像度による高精度画像レンダリングに関し、レチクルおよび大面積マスクの生成、パターンの直接書き込み、ならびにレチクルまたはその他のパターン化された工作片の検査に適用可能である。本発明の態様は、SLMおよび走査技術のいずれにも適用することができる。本発明には、マイクロミラー・アレイを変調することによって輝度画像を作成する方法が含まれる。本出願は、重複ゾーン、ガード・ゾーンの使用、多角形の移動およびサイズ変更、2段階の解像度を利用した領域表現、および縁、または縁の方向、ならびに隅の規定を開示する。
請求項(抜粋):
図形をマイクロミラー・アレイにおける個々のミラーの駆動電圧に変換する方法であって、 工作片の区域への複数の重複露光による意図したエネルギー寄与パターンに対応する重複区域に工作片をマッピングするステップと、 平行して動作する複数のレンダリング・エンジンを用いて、多数の多角形をグレイ・スケール・ピクセル値にレンダリングするステップと、 重複区域を考慮してグレイ・スケール・ピクセル値の露光値を計算するステップと、 個々のマイクロミラー特性に基づいて露光値の輪郭を描くステップと、 前記輪郭を描いた露光値を1つ以上のミラー・ピクセル・ドライバに出力するステップと、 を含む方法。
IPC (3件):
G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (3件):
G02B26/08 E ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 529
Fターム (14件):
2H041AA04 ,  2H041AA07 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ05 ,  2H041AZ06 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CB18 ,  5F046DA02
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る